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  一、采用偏焦標刻一定範圍的內容

  因為每一個聚焦雷射打標機鏡都有對應的焦深範圍,而采用偏離焦點的辦法會容易導致大範圍標刻圖案時,邊緣處在焦深臨界點或者超出焦深範圍,這樣就比較容易造成效果的不均勻性。因此,偏焦標刻的方法須考慮雷射能量的問題。

  二、雷射輸出光斑被遮擋,即雷射光束經過振鏡及場鏡後光斑有缺,不夠圓

  雷射輸出頭、固定夾具與振鏡等未調好,雷射雕刻機導致雷射經過振鏡頭時部分光斑被遮擋,經場鏡聚焦後在倍頻片上所呈現的光斑為非圓形,這樣也有可能會導致效果不均勻。

  還有一種情況,即振鏡偏轉鏡片有損傷,當雷射光束通過鏡片損傷區域時,無法很好地反射出去。因此,雷射束經過鏡片損傷區域與鏡片無損傷區域雷射能量有不一致,最終作用在材料上的雷射能量也不一樣,從而使標刻效果不均勻。

  三、熱透鏡現像

  當雷射通過光學鏡片(折射、反射)時,會使鏡片發熱產生細微的形變。這種形變會使雷射聚焦焦點上升,焦距變短。若機台固定,將距離調整到焦點處時,開雷射一段時間後,會因為熱透鏡現像而使作用在材料上的雷射能量密度發生變化,從而導致標刻效果不均勻。

  四、機台水平未調好,即雷射振鏡頭或場鏡鏡頭與加工台面不平行

  由於二者不水平,會導致雷射光束通過場鏡後到達加工物件上的距離長短不一致雷射焊接機,最終雷射落在加工物件上的能量會有不一致的能量密度,此時就會在材料上表現出效果的不均勻。

  五、材料的原因,如材料表面的膜層厚度不一致或物理化學性質變化

  材料對雷射能量反應比較敏感。通常在同種材料下,雷射能量達到材料破壞閾值是一定的。當材料鍍膜厚度不一,或有一些其他物雷射切割機理化學處理工藝不夠均勻時,同樣也會造成雷射標刻後的效果的不均勻。

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